“在收购到海力士后，我希望加强我们之间的交流合作，共同发展中国半导体产业。”
说完之后，李向阳又添加了一句，“但是我有一个条件……”
“什么条件？”众人都不禁问道，无论是钱还是其他限制，只要能得到先进的芯片制造技术,他们最后也认可了。
“不是让你们出钱，我不但提供相关的芯片制造技术，还在资金上给你们提供帮助。”
“有这样的好事？”没有人会相信，毕竟免费的东西才是最昂贵的，很多人宁愿用钱来获取这些芯片制造技术。
“各位，中国的芯片制造技术比起美日韩的芯片制造技术几乎相差几十多年,这不但是我国半导体企业发展的时间比较短,还有欧美发达国家对我国的技术封锁，让我国的芯片制造技术落后太多。虽然有些设备和技术我们可以在海外购买到，但买到的都是一些过时的，而且水平比较低的，也可以说是一些非常垃圾的东西，对海外芯片生产商不能造成威胁，否则美国也不会允许我们收购。”
“如果我们从头研究，难度会增加很多。毕竟搞研究不是一帆风顺，有的技术有可能很快攻克，但有的技术绝不是十年八年能解决的。”
“但我们会放弃自主更生吗？我的答案是，绝对不可以，而且也不可能采取。如果那么做，正中美国的下怀，以后中国半导体企业永远会依赖于美国的芯片制造技术。”
“长而久之，我们有可能会忘记我们的自主创新能力，一时掣肘，以至于以后多年受制于人。如果有一天，美国想掐住我们的脖子，让国外的芯片制造商突然停止出售高端的芯片,或者禁止向中国芯片制造企业出售重要的技术和设备，那时我们应该怎么办？”
这种情况以后有可能发生吗？
众人顿时都沉默起来，回想着中国高科技企业在国际上受到的种种不公平约束。
一切都是技术不如人，落后发达国家实在太多太多，中国所有的科技企业都在急赶猛赶，想尽一切办法，企图缩小和发达国家在科技上的差距。
正如李向阳刚才所说，他们可以买到一些低水平的技术和设备，但都是过时的，让中国半导体企业永远落后于人，最终和国外的技术水平相差越来越大。
如果美国一旦停止对中国高端芯片的供应，或者禁止向中国企业出售相关的技术和设备，中国企业不至于全部倒塌掉，但绝对会破产一大片。
中国的芯片制造技术停滞不前，只能眼看着发达国家和中国在芯片制造领域之间的差距越来越大，强国富民的理想如何实现？中国半导体崛起的道路又在何方？
“以李总看来，我们以后怎么办？”
李向阳听后沉默不语，中国芯片制造技术和发达国家的芯片制造技术相比，差距实在太大了,绝对不是十年或者二十年能赶上的。
在他重生之前，美国正对中国半导体企业实施的打压，其手段可谓是无所不用其极，想千方百计地遏制中国半导体企业的发展。
芯片被誉为制造业的大脑，随着科学技术的发展和电子产品在国民经济中所占的比重越来越高大，芯片的重要性还会进一步提升。
从计算机到汽车，从手机到人工智能设备，一切都离不开芯片。
所以芯片已经成为美国遏制中国高科技企业发展的核心领域。卡住芯片，就相当于卡住了中国高科技发展的一个动力源。
所以，如果中国半导体企业想在芯片制造领域取得重大突破，除了在芯片设计外，还要发展芯片制程技术和光刻机设备。
目前，市场上主流的芯片架构有英特尔、安谋和美普斯三种。安谋架构和英特尔架构是市场份额占有率最高的两大架构，分别在计算机和移动设备上有着不可替代的优势，处于完全垄断的卖方市场。
如果没有安谋和英特尔的授权，国内大多数芯片制造商，根本没法做出芯片。
制作芯片所需要的光刻机，目前主要有三家公司进行生产，分别是尼康公司和佳能公司，以及荷兰的asml公司，这三家公司可以说是全球光刻机的三大巨头。
一直以来，只有美日韩才可以拥有高端光刻机，对中国芯片制造企业实施技术封锁。
李向阳说道：“我们不能放弃自主研发能力，只有自我发展好才是硬道理。我们以后不但要发展芯片制造技术，还要在芯片制程技术和光刻机设备上下功夫，既要打造中国独有的芯片设计架构，还要制造中国人自己的光刻机。”
众人听后，都不由地沉默起来，虽然芯片设计架构至关重要，但一时之间还无法改变，还摆脱不了两大芯片架构厂商的限制。
打造国产光刻机，才是中国众多芯片制造企业的梦想，而且是重中之重，不能让美国在光刻机设备上一直卡中国企业的脖子。
七十年代，中国在光刻机设备上曾经发展的不错，已经打造出中国自主研发的光刻机，虽然没有超越当时的世界先进水平，但和发达国家的光刻机相差并不大。
八十年代以来，由于可以购买到高性价比的国外光刻机，绝大多数芯片制造企业开始大量引进国外的光刻机，忽视了自主创新能力，使中国的光刻机研发在各方面都出现了脱节，从而让中国在光刻机领域再次落后于发达国家。
进入二十一世纪，中国大多数芯片制造企业才醒悟过来，正式启动193纳米光刻机项目，但这已经落后asml公司二十多年，虽然中国在各方面急追猛赶，但始终没有在光刻机上取得历史性的突破。
而且我国光刻机的光源技术受限193纳米领域，一直无法进步，而且这个技术非常关键，导致asml公司在后世如此强势，在美国主子的授权下，直接对中国制造芯片说不，禁止向中国芯片制造企业供应先进的光刻机。
所以，国产光刻机的研发刻不容缓，不但需要众多芯片制造企业的积极参与，还需要中国政府和科研力量的大力支持，毕竟这不是一家或两家芯片生产企业能完成的。
“李总，如果你想投资光刻机制造，我们都愿意加入进来，共同打造中国的光刻机。”
在座的几位大佬纷纷表示支持，愿意加入李向阳所倡导的新一代光刻机的制造计划，虽然他们投资甚少，但是如果昌隆电子研发成功，作为光刻机研发的合作伙伴，他们最终都会受益匪浅。
“好，让我们共同研发中国的光刻机！”
李向阳伸出手来，和在座的各位大佬逐一握手，初步达成了合作意向。
虽然前途依然渺茫，但是只有通过合作，中国的半导体企业才能走得更远。
后世独霸于光刻机设备生产的asml公司，不但是一个集成组装生产商，还是全球化的受益者，其90%的零部件来自于外购，背后是美日韩、湾湾地区和德国的技术支撑，才能生产出极度复杂的euv光刻机。
为了不让光刻机方面受制于人，李向阳等人必须提前布局，不但要急追猛赶，争取在荷兰公司研发出euv光刻机之前，在光刻机制造方面取得一定的技术优势，还要兼并一些关键零部件和重要化学品企业。
特别是制造光刻机需要的光源，双工件台和反射镜，这些都是制造euv光刻机的三大重要部件。
在光源方面，虽然攻克euv光源十分重要，但是在主流的duv光源方面，中国还很落后，因为asml公司已经放弃157纳米的duv光源，转向euv光源技术。
所以，中国不但缺少研发光刻机的制造公司，还缺少研发光刻机光源的高科技企业。
在光刻机镜头方面，中国光学科研单位研发的速度十分缓慢，一直到2020年，都没有研制出什么实物。
就连duv光刻机使用的透镜和核心的光学镜片、目前和光刻机光源一样，都不掌握在国内厂商的手中，要实现这两方面的突破，绝非一日之功，但是这一步是必须要走，而且是刻不容缓。
至于光刻机生产需要的工件台，虽然国内有企业已经开始研发双工件台，但双工作台的技术还很落后，估计目前刚摸索到一点光刻机双工件台的门槛。
除了这三大部件外，剩下的控制台，掩膜台等还至关重要，需要众多国内芯片制造企业继续摸索前进。
但是，中国芯片制造产业的发展，不仅仅是简单的芯片制造技术，还要在国内形成一条完整的国产化芯片产业链，而这个芯片产业链，既需要众多中国半导体企业通力合作，还需要中国政府和科研单位在芯片研发方面进行大力支持。
在开始时，只有少数的几家半导体企业加盟，但李向阳相信这支队伍以后会逐渐扩大，在所有半导体企业的共同努力下，一定生产出中国先进的光刻机。